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Analysis of Negative Capacitance UTB SOI MOSFETs considering Line-Edge Roughness and Work Function Variation

Chiu, Pin-Chieh ; Hu, Vita Pi-Ho
In: IEEE 2nd Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM); (2018-03-01) S. 13-15
Konferenz

Titel:
Analysis of Negative Capacitance UTB SOI MOSFETs considering Line-Edge Roughness and Work Function Variation
Autor/in / Beteiligte Person: Chiu, Pin-Chieh ; Hu, Vita Pi-Ho
Quelle: IEEE 2nd Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM); (2018-03-01) S. 13-15
Veröffentlichung: 2018
Medientyp: Konferenz
ISBN: 978-1-5386-3712-8 (print) ; 978-1-5386-3711-1 (print)
DOI: 10.1109/EDTM.2018.8421472
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library

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